根据Jiwei.com的消息，1月7日，鑫源微在组织调查期间发布了活动记录表。新元微表示，该公司先前的涂布和显影机以及国际光刻机的技术问题已得到克服和验证。
它可以与ASML，佳能和国内的上海微电子（SMEE）等国际品牌的光刻机一起在线使用。根据天彦检查的信息，鑫源微电子成立于2002年。
它是由中国科学院沉阳自动化研究所建立的国家高新技术企业。它专注于半导体生产设备的研发，生产，销售和服务，致力于为客户提供半导体设备和技术。
整体解决方案。在谈到前端涂层和显影机Track与国际光刻机之间的连接是否存在任何技术障碍时，Core Source表示，前端涂层和显影机与国际光刻机之间的技术问题存在被克服了。
经过验证，它可以在线使用国际品牌的光刻机，包括ASML，佳能和国内的上海微电子（SMEE）。据新元伟介绍，胶水显影机在将Iline，KrF升级为ArF等技术过程中的主要技术难点是胶水显影机结构复杂，操作部件繁多。
研发升级具有较大的技术跨度，这主要体现在颗粒污染物的控制上，例如烘烤精度，多个腔体的一致性和均匀性，对不同光刻胶的涂层和显影工艺的精细控制以及对整体光刻胶的控制。设备中的颗粒污染物据悉，鑫源微电子目前订单相对较多，与往年相比，生产进度显着增加。
新元微指出，该公司现有的厂房面积已经满负荷运转，新厂房也正在建设中。根据计划，它将在2021年第四季度投入使用。
届时，它将对公司的产能提高起到非常重要的作用。关于进口零部件的采购，鑫源微电子的相关人士表示，鑫源微电子目前没有被卡住的情况。
尽管国内外市场需求旺盛导致采购周期延长，但鑫源微科已根据订单情况提前采取对策，并进行了充足的库存，以确保客户订单的正常生产，调度和交付。
